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EZ Imprinting. INC. UV紫外纳米压印设备

可供实验室研发使用的UV纳米压印设备,通过一步骤和Auto-ReleaseTM自动脱膜技术,同时压印效果可达10nm,且具备准确套刻能力,该技术由惠普实验室研发(HP Lab.).该设备是业内最具性价比的产品,在业内多家著名的纳米实验室使用。

  
                                 设备型号:PL200/PL400

      
                                             设备型号:PL600

 可实现高质量的图形复制
 可实现纳米热压设备的一切功能,而无需昂贵的工艺设备。


典型应用
 在硅片上制作纳米级光栅
 压印易碎的材料(例如III-V族材料)
 微结构加工
 制作压印印章
 保护母版的适用寿命
 热压高深宽比结构图形


主要性能
 Wafer尺寸:2英寸,4英寸,6英寸;(可兼容小尺寸及不规则衬底压印工艺)
 压印尺寸:2,4,6英寸;(全图形压印)
 压印压力:0~25PSI(可升级到最大100PSI)
 模板尺寸:6,4,2,1”
 典型压印时间:小于5分钟/wafer
 Auto-Realease 自动脱膜工艺(无需特殊设备,自动脱膜工艺保证了纳米压印的高良率)
 可根据用户和研发的需要扩张各种功能和应用
 PLC触摸屏控制
 兼容传统的聚合物UV固化工艺
 压印效果可达10nm
 产品良率可达99%
 可完成对准功能(可选)
 可提供模板制作及压印胶等辅助材料(可选)

 
 

可支持压印工艺:
纳米压印模板自动脱离工艺-减少纳米压印结构缺陷
纳米压印胶点胶装置-可过滤0.20um的杂质,保证压印效果
纳米压印单层压印工艺-适合刻蚀(etching)工艺
纳米压印双层压印工艺-适合剥离(lift-off)工艺
纳米压印程序设定及优化工艺-可掌握纳米压印关键技巧
纳米压印模板抗粘层处理及材料-可对模板进行抗粘层处理
纳米压印模板复制工艺-可完成复制母版工艺
纳米压印快速模板转换工艺-可使用硅模板简单转化并实现UV压印工艺
纳米压印软膜压印工艺-提供完整的软膜压印工艺,可完成曲面压印并减少压印结构缺陷


应用实例:

详细信息请联系:
 电话: 86-10-65925645,65929640
传真: 86-10-65928200, 13701339561

 
tom@hacori.com,何先生

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