专注于真空薄膜领域 In Line Sputtering System 多腔室溅射设备 Co Sputtering System 共溅射系统 Ion Sputtering System 离子溅镀设备 Ultra high vacuum System 超高真空薄膜系统 PLD 激光脉冲沉积设备 Customer Design System 支持客户自定义薄膜系统
![](http://www.hacori.com/Pic/2012042758370921.JPG) 超高真空电子束蒸镀设备 UHV E-beam System
![](http://www.hacori.com/Pic/2012052553902129.jpg) 电子束蒸发系统LJ-550E
主要指标:
类型: 1x20cc,4x70cc, 3KW, 6KW
真空(Torr) 5×10-7,5×10-9
压力控制: 可选
流量控制: 可选
加热: 400 ℃
基板: 2,3,4,6,2"x5 or bigger
晶片转速: 30-120rpm
辅助沉积工艺:离子源辅助,等离子体辅助,基座偏压(Bias)
loadlock: 可选
真空計: Ion/冷陰極/熱偶式 數位显示
我们也可针对不同厂商/功率的电子枪结合工艺要求为您选择最佳的方案。
![](http://www.hacori.com/Pic/2012052554228053.jpg) 电子束蒸发系统LJ-SET-300
![](http://www.hacori.com/Pic/2012052554004741.jpg) 电子束蒸发系统LJ-550E控制系统
详细信息请联系:
电话: 86-10-87721612,87721672
传真: 86-10-87721672
tom@hacori.com,何先生 |