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NILT@ 纳米工艺解决方案
Nanoimprint Lightgraphy    纳米光学
Nano Fabriction Solution     纳米制作解决方案
Nanoimprint Tool                纳米压印设备


THERMAL NIL 主要性能指标:

  集成控温卡盘,可对温度进行测量、控制
  压印程序可进行编程(温度、压力、时间)



  可适用于100mm(4 英寸以下)所有尺寸和形状的压印模板。
  可适用于Silicon, Quartz, Nickel and Polymer materials
  压印程序可进行编程
  适用所有热压印材料
  设备可用于复制压印母板
  压印温度可达200 摄氏度
  压力范围:1‐10 bar
  压印精度:40nm 或更好 (可完成工艺验收)
  将模板加热和温度测量集成与压印载盘上
  载盘适用于易碎衬底
  快速升温,快速降温,拥有专利技术的卡盘设计,可保证快速升温、降温并保持良好的
  温度均匀性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分钟
  提供COC 有机聚合物中间层软膜(最先进的母板复制工艺),耗材及工艺培训
  提供压印相关材料
  提供工艺培训和支持



压印实例

详细信息请联系:
 电话: 86-10-65925645,65929640
传真: 86-10-65928200, 13701339561

 
tom@hacori.com,何先生

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