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纳米工艺解决方案
Nanoimprint Lightgraphy 纳米光学
Nano Fabriction Solution 纳米结构加工和制作
Nanoimprint Tool 纳米压印设备
Nanoimprint Material 纳米压印材料
Nanoimprint Stamp 纳米压印印章 |
我们联合多家NILCOM成员及纳米行业知名公司，为中国用户提供基于最新纳米科技成果的设备、产品和技术解决方案，为客户提供个性化的纳米工艺解决方案，我们的产品和服务包括：
 微纳结构图形制造（纳米压印、超高精密电子束光刻(EBL工艺)、相关工艺服务
NANO IMPRINT 纳米结构加工制作服务
NILT使用现有设备及工艺经验为用户提供纳米结构加工与制作服务，包括研发样品和批量生产：
 可加工衬底尺寸：6英寸，8英寸
衬底材料-用户指定
热压工艺，UV压印，混合压印
提供工艺支持服务
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY 电子束光刻EBL工艺
NILT利用高性能 (100KV Gaussian) 电子束光刻设备，提供纳米加工服务。
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| Specifications |
Gaussian shaped system |
Variable shaped system |
| 最小尺寸 |
20 nm |
60 nm |
| 衬底尺寸 |
2 inch, 4 inch, 6 inch wafers
65 mm x 65 mm template blanks, 6025 mask blanks |
6 inch wafers |
| 设计格式 |
GDSII, DXF, TDB, CIF |
GDSII, DXF, TDB, CIF | |
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PROCESSING SERVICE 工艺支持
NILT将根据客户的需要提供更多的工艺支持服务：
Lithography 光学
Etching 刻蚀
Mental Deposition 金属镀膜
Test and Others 测试及其他服务
CLEAN ROOM FACILITES 超静间厂房及相关工艺设备
NILT拥有3个10-100级别的超净实验室。主工艺车间面见为1300平方米，设备包括
Electron beam lithography (Jeol JBX9300FS, 100keV, Vistec SB352HR, 100keV) 电子束光刻
Nanoimprint lithography Molecular Imprint, NanoLithoSolution, Obducat) 压印设备
ICP, RIE, DRIE for Si, Qz, Al, Cr 干法刻蚀
Test and Others （SEM, AFM, Profilometer) 检测设备
Others: LPCVD PECVD 其他工艺设备
纳米压印模板实例
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电话：86-10-65925645,65929640 传真：86-10-65928200 E-Mail：info@hacori.com 京ICP备09000867号
