专注于真空薄膜领域 In Line Sputtering System 多腔室溅射设备 Co Sputtering System 共溅射系统 Ion Sputtering System 离子溅镀设备 Ultra high vacuum System 超高真空薄膜系统 PLD 激光脉冲沉积设备 Customer Design System 支持客户自定义薄膜系统
![](http://www.hacori.com/Pic/2012042758370921.JPG) 超高真空热蒸镀设备 UHV Thermal Evaporation System
![](http://www.hacori.com/Pic/2012052554494925.jpg) 热蒸镀设备LJTH-450
类型: 1x20cc,4x70cc, 3KW, 6KW
真空(Torr) 5×10-7,5×10-9
压力控制: 可选
流量控制: 可选
加热: 400 ℃
基板: 2,3,4,6,2"x5 or bigger
晶片转速: 30-120rpm
辅助沉积工艺:离子源辅助,等离子体辅助,基座偏压(Bias)
loadlock: 可选
真空計: Ion/冷陰極/熱偶式 數位显示
![](http://www.hacori.com/Pic/2012052554577301.jpg)
热蒸镀设备LJTH-400
详细信息请联系:
电话: 86-10-87721612,87721672
传真: 86-10-87721672
tom@hacori.com,何先生
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