美国Cee®喷涂显影设备
Cee® Benchtop Spin Coater, Bake Plate and Develop Equipment

Cee® 品牌设备证明了可以在小型、灵活和更便宜的设备上实现价值百万美元设备的均匀性，

Brewer Science拥有30年的匀胶设备制造历史，Cee® 热板的0.3%的温度均匀性，和匀胶转速小于0.2rpm转速精度及可重复性是业内领先的标准。Cee®设备拥有多项行业内专利和标准，通过不断把最新的技术融入设备中，Cee®将继续成为半导体下一代工艺的领先者。

Cee®在全球拥有超过1500个客户，其中包括知名的：杜邦、朗讯、德州仪器、Axcelis Technologies、摩托罗拉、希捷、Sony音乐、IBM 、道康宁、BAE系统公司和IBM等，在中国Cee®品牌也拥有众多的成功客户。
                           
                                      Cee®200XD 喷涂显影设备

 喷涂显影设备主要性能指标
 主机机箱采用不锈钢材料（抗化学腐蚀易清洁）
 旋涂程序：250,000个程序，没程序步骤限制，每个步骤可精确到0.1秒
 转动速度：0-12,000rpm(16,000rpm可选)
  Windows XP 控制系统
  加速度：0-30000rpm/sec（空载）
  转速调节精度0.2rpm，重复性< 0.2rpm
  自动程序压力控制显影液喷涂功能
  自动程序压力控制去离子水喷涂功能
  自动程序控制氮气吹拂功能
  支持wafer尺寸1cm-200mm全尺寸卡盘

  显影液方式：喷淋式、浸没式、水柱式

 

    

选件：
 可与其他设备配合使用，可与热板组成显影/热板机型（Cee200XCBD）
 加装Wet Bench（湿台选配）

  
下载喷涂显影设备资料

详细信息请联系：
 电话: 86-10-87721612,87721672
传真: 86-10-87721672
 tom@hacori.com,何先生