EZ Imprinting. INC. UV全息纳米光刻设备

        EZImprinting 公司开发了一款全息光刻设备（HL系列），该设备可低成本的制作较大面积的1D/2D/3D 的纳米图案结构。

        该设备无需使用掩膜版、及纳米压印模板，只需选择图形制作的类型，并设计图形结构(光栅、方形结构、圆柱结构、钻石结构等)，设置曝光程序，即可获得大面积的均匀纳米结构图形。

	主要性能： 可完成250nm周期结构制作（125nm线宽） 可高效完成大面积1D/2D/3D 纳米级结构制作 一次完成纳米结构制作 无需掩膜版 无需压印模板 高均匀性低缺陷结构 适用光栅结构、晶格结构、PSS图形衬底 低成本、快速制作纳米结构 适用于平面及曲面结构  2英寸全面积纳米结构制作只需1分钟 分布方式可实现6英寸纳米结构制作
设备型号：HL50

                                      

	主要应用： 纳米结构制作 大面积光栅结构 SERS 表面增强散射 光子晶体 LED 太阳能 PSS图形 纳米丝衬底等
125nm光栅结构图